问：用PID怎样控制膜层厚度？
答：最直接的镀膜控制方法是石英晶体微量平衡法(QCM)。这种仪器可以直接驱动蒸发源，操作斜面及浸泡步骤，通过PID控制循环驱动挡板，保持蒸发速率。只要将仪器与系统控制软件相连接，它就可以控制整个的镀膜过程。我们还可以选用相互隔离的双重传感器探头，它既提供了安全备份，而且还可用来进行多层厚膜的镀制。但是，QCM的精确度是有限的，部分原因是由于它监控的是被镀膜的质量而不是其光学厚度。此外，虽然QCM在较低温度下非常稳定，但温度较高时它会变得对温度非常敏感。在长时间的加热过程中，很难阻止传感器跌入这个敏感区域，从而对膜层造成重大误差。
光学监控是高精密镀膜的首选监控方式，这是因为它可以更精确地控制膜层厚度(如果运用得当)。精确度的改进源于很多因素，但最根本的原因是对光学厚度的监控。光学厚度可以采用直接测控，即在基片上进行测控，也可以在单独的监控片上进行间接测控，间接监控的优点是灵活性强，但我们在应用时必须能够容忍监控片与基片间的差异。多年来，人们发展了很多有效提高光学反应对膜厚变化灵敏度的理论和方法来减少终极误差，典型的光学监控软件提供了反馈或传输的选择模式和大范围的监测波长。波长可以利用窄带滤波器或单色仪进行选择。虽然单色仪的价格相对昂贵，但它可以在很宽的范围内提供连续可选的波长。另外，我们还可采用带多重光栅的单色仪来选择波长。紫外区，可见光区和红外区都有其与众不同的特性，因此必须认真选择光源及检波器，使之与监控仪的工作波长相匹配。
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